Patterning a cellulose based dual-tone photoresist via deep X-ray lithography

Miltscho Andreev, Benedetta Marmiroli^*, Robert Schennach, Heinz Amenitsch^*

^*Korrespondierende/r Autor/-in für diese Arbeit

Publikation: Beitrag in einer Fachzeitschrift › Artikel › Begutachtung

1 Ergebnisse

Abgeschlossen
Poröse Materialien @ Arbeit
Klimant, I., Nidetzky, B., Coclite, A. M., Schennach, R., Sonderegger, B., Resel, R., Würschum, R., Amenitsch, H., Zojer, E., Bergmann, A., Falcaro, P., Borisov, S., Trimmel, G. & Slugovc, C.
1/07/18 → 31/03/22
Projekt: Forschungsprojekt