Patterning a cellulose based dual-tone photoresist via deep X-ray lithography

Miltscho Andreev, Benedetta Marmiroli*, Robert Schennach, Heinz Amenitsch*

*Korrespondierende/r Autor/-in für diese Arbeit

Publikation: Beitrag in einer FachzeitschriftArtikelBegutachtung

Fingerprint

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