Studies of high-K CMOS process nodes in the context of future IC applications for ionizing environments

Alicja Malgorzata Michalowska-Forsyth

Publikation: Konferenzbeitrag › Abstract

Fingerprint

Untersuchen Sie die Forschungsthemen von „Studies of high-K CMOS process nodes in the context of future IC applications for ionizing environments“. Zusammen bilden sie einen einzigartigen Fingerprint.

Material Science

Physics

Chemical Engineering

Engineering