Vergleich der Eigenschaften aufgedampfter und aufgesputterter Niob-Schichten auf Silicium- und Saphirwafern

Peter Warbichler, Bernd Kolbesen, O. Brunkahl, C. Angelkort, W. Bock, H. Oechsner, K. Röll, K. Thoma

Research output: Chapter in Book/Report/Conference proceeding › Conference paper › peer-review

Original language	German
Title of host publication	12. Tagung Festkörperanalytik, Wien, Kurzfassungen,
Publisher	.
Pages	P19-P19
Publication status	Published - 2003

Characterization of Niobium-Nitride Layers on SiO2 by Means of EELS and EFTEM
Brunegger, A., Kothleitner, G. & Rogers, M.
1/06/99 → 31/12/09
Project: Research project
Analytical Electron Microscopy
Schaffer, B., Hofer, F., Rogers, M., Mitterbauer, C. & Wewerka, K.
1/01/95 → 31/01/03
Project: Research area

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TY - GEN

T1 - Vergleich der Eigenschaften aufgedampfter und aufgesputterter Niob-Schichten auf Silicium- und Saphirwafern

AU - Warbichler, Peter

AU - Kolbesen, Bernd

AU - Brunkahl, O.

AU - Angelkort, C.

AU - Bock, W.

AU - Oechsner, H.

AU - Röll, K.

AU - Thoma, K.

PY - 2003

Y1 - 2003

M3 - Beitrag in einem Konferenzband

SP - P19-P19

BT - 12. Tagung Festkörperanalytik, Wien, Kurzfassungen,

PB - .

ER -