| Original language | German |
|---|---|
| Publication status | Published - 23 Sep 2002 |
| Event | 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft - Leoben (Österreich) Duration: 1 Sep 2002 → 26 Sep 2002 |
Conference
| Conference | 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft |
|---|---|
| City | Leoben (Österreich) |
| Period | 1/09/02 → 26/09/02 |
Cite this
Cagran, C., & Pottlacher, G. (2002). Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase. 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Leoben (Österreich), .
Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase. / Cagran, Claus; Pottlacher, Gernot.
2002. 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Leoben (Österreich), .Research output: Contribution to conference › (Old data) Lecture or Presentation › Research
Cagran, C & Pottlacher, G 2002, 'Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase' 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Leoben (Österreich), 1/09/02 - 26/09/02, .
Cagran C, Pottlacher G. Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase. 2002. 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Leoben (Österreich), .
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TY - CONF
T1 - Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase
AU - Cagran, Claus
AU - Pottlacher, Gernot
PY - 2002/9/23
Y1 - 2002/9/23
M3 - (Altdaten) Vortrag oder Präsentation
ER -