Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

Claus Cagran; Gernot Pottlacher

Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

Institute of Experimental Physics (5110)

Research output: Contribution to conference › (Old data) Lecture or Presentation

Original language	German
Publication status	Published - 23 Sep 2002
Event	52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft - Leoben (Österreich) Duration: 1 Sep 2002 → 26 Sep 2002

Conference

Conference	52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft
City	Leoben (Österreich)
Period	1/09/02 → 26/09/02

1 Active

Thermophysics
Pottlacher, G., Cagran, C. & Wilthan, B.
1/01/82 → …
Project: Research area

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Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase. / Cagran, Claus; Pottlacher, Gernot.

2002. 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Leoben (Österreich).

Research output: Contribution to conference › (Old data) Lecture or Presentation

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Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

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