Project Details
Description
Ziel der Dissertation ist es ein Gesamtkonzept für das Prozessmanagement in Hinblick auf Temperaturprofile und Durchflussprofile am Wafer während des Ätz.- bzw. Reinigungsprozesses zu entwerfen und in die Praxis umzusetzen.
| Status | Finished |
|---|---|
| Effective start/end date | 1/05/14 → 30/04/17 |
Fingerprint
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