Reductive photopatterning of phenylene-vinylene-based polymers

T. Kavc, Gregor Langer, Wolfgang Kern, Andreas Ruplitsch, Arnulf-Kai Mahler, Franz Stelzer, Gertraud Hayn, Robert Saf, Emil List, Egbert Zojer, M.T. Ahmed, Alexander Pogantsch, Kurt Friedrich Iskra, Theo Neger, H. H. Hörhold, H. Tillmann, G. Kanzelbinder, E. Toussaere, G. Jakopic

Publikation: Beitrag in einer FachzeitschriftArtikelForschung

Originalspracheenglisch
Seiten (von - bis)BB11.3.1.-BB11.3.1.
FachzeitschriftMaterials Research Society Symposium Proceedings
Jahrgang708
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2002

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Reductive photopatterning of phenylene-vinylene-based polymers. / Kavc, T.; Langer, Gregor; Kern, Wolfgang; Ruplitsch, Andreas; Mahler, Arnulf-Kai; Stelzer, Franz; Hayn, Gertraud; Saf, Robert; List, Emil; Zojer, Egbert; Ahmed, M.T.; Pogantsch, Alexander; Iskra, Kurt Friedrich; Neger, Theo; Hörhold, H. H.; Tillmann, H.; Kanzelbinder, G.; Toussaere, E.; Jakopic, G.

in: Materials Research Society Symposium Proceedings, Jahrgang 708, 2002, S. BB11.3.1.-BB11.3.1.

Publikation: Beitrag in einer FachzeitschriftArtikelForschung

Kavc, T, Langer, G, Kern, W, Ruplitsch, A, Mahler, A-K, Stelzer, F, Hayn, G, Saf, R, List, E, Zojer, E, Ahmed, MT, Pogantsch, A, Iskra, KF, Neger, T, Hörhold, HH, Tillmann, H, Kanzelbinder, G, Toussaere, E & Jakopic, G 2002, 'Reductive photopatterning of phenylene-vinylene-based polymers' Materials Research Society Symposium Proceedings, Jg. 708, S. BB11.3.1.-BB11.3.1..
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