Plasma oxidation as a tool to design oxide films at low temperatures

Robert Schennach, D.G. Naugle, H McWhinney, David L Cocke

Publikation: Konferenzbeitrag(Altdaten) Vortrag oder Präsentation

Originalspracheenglisch
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2 Okt 2000
Veranstaltung47th International Symposium of the American Vacuum Society - Boston, MA, USA / Vereinigte Staaten
Dauer: 2 Okt 20006 Okt 2000

Konferenz

Konferenz47th International Symposium of the American Vacuum Society
LandUSA / Vereinigte Staaten
OrtBoston, MA
Zeitraum2/10/006/10/00

Treatment code (Nähere Zuordnung)

  • Basic - Fundamental (Grundlagenforschung)

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