Plasma oxidation as a tool to design oxide films at low temperatures

Robert Schennach, D.G. Naugle, H McWhinney, David L Cocke

Publikation: Konferenzbeitrag › (Altdaten) Vortrag oder Präsentation

Originalsprache	englisch
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 2 Okt. 2000
Veranstaltung	47th International Symposium of the American Vacuum Society - Boston, MA, USA / Vereinigte Staaten Dauer: 2 Okt. 2000 → 6 Okt. 2000

Konferenz	47th International Symposium of the American Vacuum Society
Land/Gebiet	USA / Vereinigte Staaten
Ort	Boston, MA
Zeitraum	2/10/00 → 6/10/00

Treatment code (Nähere Zuordnung)

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