Photolithographic Patterning of Polymer Surfaces Using the Photo-Fries Rearrangement: Selective Postexposure Reactions

Thomas Grießer, Thomas Höfler, Susanne Temmel, Wolfgang Kern, Gregor Trimmel

Publikation: Beitrag in einer FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

Originalspracheenglisch
Seiten (von - bis)3011-3017
FachzeitschriftChemistry of Materials
Jahrgang19
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2007

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