Photolithographic patterning of polymer surfaces based on the photo-Fries rearrangement: selective post-exposure reactions

Thomas Grießer, Thomas Höfler, Susanne Temmel, Wolfgang Kern, Gregor Trimmel

Publikation: KonferenzbeitragPoster

Originalspracheenglisch
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2007
VeranstaltungWinterschool on Organic Electronics - Planneralm, Donnersbach, Austria
Dauer: 27 Jan. 20072 Feb. 2007

Konferenz

KonferenzWinterschool on Organic Electronics
OrtPlanneralm, Donnersbach, Austria
Zeitraum27/01/072/02/07

Treatment code (Nähere Zuordnung)

  • Basic - Fundamental (Grundlagenforschung)

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