Micropattern formation by molecular migration via UV-induced dehydration of block copolymers

Kenji Okada, Yasuaki Tokudome, Rie Makiura, Kristina Konstas, Luca Malfatti, Plinio Innocenzi, Hiroki Ogawa, Toshiji Kanaya, Paolo Falcaro, Masahide Takahashi^*

^*Korrespondierende/r Autor/-in für diese Arbeit

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