Highly robust electron beam lithography lift-off process using chemically amplified positive tone resist and PEDOT:PSS as a protective coating

Johannes Kofler, Kerstin Schmoltner, Andreas Klug, Emil List-Kratochvil

Publikation: Beitrag in einer FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

Originalspracheenglisch
Seiten (von - bis)095010-1-095010-7
FachzeitschriftJournal of Micromechanics and Microengineering
Jahrgang24
Ausgabenummer9
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2014

Fields of Expertise

  • Advanced Materials Science

Treatment code (Nähere Zuordnung)

  • Basic - Fundamental (Grundlagenforschung)

Dieses zitieren