Highly Reactive and High-Resolution Poly-(2-Oxazoline)-Based Negative Photoresists

Verena Schenk, Martin Fimberger, Elisabeth Rossegger, Frank Wiesbrock

Institut für Chemische Technologie von Materialien (6380)

Publikation: Konferenzbeitrag › (Altdaten) Vortrag oder Präsentation

1 Ergebnisse

Abgeschlossen
Surface chemistry and adhesive properties of designed photoresist polymers
Fimberger, M., Mühlbacher, I., Stelzer, F., Schenk, V. & Wiesbrock, F.
1/01/10 → 31/12/13
Projekt: Forschungsprojekt