Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

Claus Cagran; Gernot Pottlacher

Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

Institut für Experimentalphysik (5110)

Publikation: Konferenzbeitrag › (Altdaten) Vortrag oder Präsentation

Originalsprache	deutsch
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 23 Sept. 2002
Veranstaltung	52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft: ÖPG 2002 - Leoben, Österreich Dauer: 23 Sept. 2002 → 26 Sept. 2002

Konferenz

Konferenz	52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft
Land/Gebiet	Österreich
Ort	Leoben
Zeitraum	23/09/02 → 26/09/02

Thermophysik
Pottlacher, G., Cagran, C. & Wilthan, B.
1/01/82 → …
Projekt: Arbeitsgebiet

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Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase. / Cagran, Claus; Pottlacher, Gernot.
2002. 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft, Leoben, Österreich.

Publikation: Konferenzbeitrag › (Altdaten) Vortrag oder Präsentation

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TY - CONF

T1 - Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

AU - Cagran, Claus

AU - Pottlacher, Gernot

PY - 2002/9/23

Y1 - 2002/9/23

M3 - (Altdaten) Vortrag oder Präsentation

T2 - 52. Jahrestagung der Österreichischen Physikalischen Gesellschaft

Y2 - 23 September 2002 through 26 September 2002

ER -

Einfluss der Oberflächenrauhigkeit auf das normale spektrale Emissionsvermögen von Kupfer und Silber bei einer Wellenlänge von 684.5 nm bei Pulsheizung in die flüssige Phase

Konferenz

Projekte

Thermophysik

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