Der elektronenstrahlgepumpte XeF-Laser bei 351 und 486 nm

Wolfgang Ernst, F. K. Tittel

Publikation: Konferenzbeitrag(Altdaten) Vortrag oder PräsentationForschung

Originalsprachedeutsch
PublikationsstatusVeröffentlicht - 15 Mär 1980
VeranstaltungDPG-Frühjahrstagung - Bielefeld, Deutschland
Dauer: 15 Mär 198019 Mär 1980

Konferenz

KonferenzDPG-Frühjahrstagung
LandDeutschland
OrtBielefeld
Zeitraum15/03/8019/03/80

Dies zitieren

Ernst, W., & Tittel, F. K. (1980). Der elektronenstrahlgepumpte XeF-Laser bei 351 und 486 nm. DPG-Frühjahrstagung, Bielefeld, Deutschland.

Der elektronenstrahlgepumpte XeF-Laser bei 351 und 486 nm. / Ernst, Wolfgang; Tittel, F. K.

1980. DPG-Frühjahrstagung, Bielefeld, Deutschland.

Publikation: Konferenzbeitrag(Altdaten) Vortrag oder PräsentationForschung

Ernst, W & Tittel, FK 1980, 'Der elektronenstrahlgepumpte XeF-Laser bei 351 und 486 nm', Bielefeld, Deutschland, 15/03/80 - 19/03/80, .
Ernst W, Tittel FK. Der elektronenstrahlgepumpte XeF-Laser bei 351 und 486 nm. 1980. DPG-Frühjahrstagung, Bielefeld, Deutschland.
Ernst, Wolfgang ; Tittel, F. K. / Der elektronenstrahlgepumpte XeF-Laser bei 351 und 486 nm. DPG-Frühjahrstagung, Bielefeld, Deutschland.
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TY - CONF

T1 - Der elektronenstrahlgepumpte XeF-Laser bei 351 und 486 nm

AU - Ernst, Wolfgang

AU - Tittel, F. K.

PY - 1980/3/15

Y1 - 1980/3/15

M3 - (Altdaten) Vortrag oder Präsentation

ER -