[DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE

Frank Wiesbrock; Franz Stelzer; Verena Schenk; Lisa Ellmaier

[DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE

Frank Wiesbrock (Erfinder), Franz Stelzer (Erfinder), Verena Schenk (Erfinder), Lisa Ellmaier (Erfinder)

Institut für Chemische Technologie von Materialien (6380)

Publikation: Schutzrecht › Patent

Originalsprache	englisch
Veröffentlichungsnummer	WO 2013/036979 A1
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 21 März 2013

Fields of Expertise

Advanced Materials Science

Generation of Smooth Surfaces Employing Polymer-Based Coatings
Rupp, B., Bodner, T., Bohnemann, K., Wiesbrock, F. & Stelzer, F.
1/07/09 → 31/12/09
Projekt: Forschungsprojekt

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TY - PAT

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AU - Wiesbrock, Frank

AU - Stelzer, Franz

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N1 - Anmelder: AUSTRIA TECH & SYSTEM TECH, AT ; ELLMAIER LISA, AT ; POLYMER COMPETENCE CT LEOBEN GMBH, AT ; SCHENK VERENA, AT ; STELZER FRANZ, AT ; WIESBROCK FRANK, AT ;

PY - 2013/3/21

Y1 - 2013/3/21

M3 - Patent

M1 - WO 2013/036979 A1

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Fields of Expertise

Projekte

Generation of Smooth Surfaces Employing Polymer-Based Coatings

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