[DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE

Frank Wiesbrock (Erfinder), Franz Stelzer (Erfinder), Verena Schenk (Erfinder), Lisa Ellmaier (Erfinder)

Publikation: SchutzrechtPatent

Originalspracheenglisch
VeröffentlichungsnummerWO 2013/036979 A1
PublikationsstatusVeröffentlicht - 21 Mär 2013

Fields of Expertise

  • Advanced Materials Science

Projekte

  • 1 Abschlussdatum

Generation of Smooth Surfaces Employing Polymer-Based Coatings

Rupp, B., Bodner, T., Bohnemann, K., Wiesbrock, F. & Stelzer, F.

1/07/0931/12/09

Projekt: Foschungsprojekt

Dieses zitieren

Wiesbrock, F., Stelzer, F., Schenk, V., & Ellmaier, L. (2013). [DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE. (Patent Nr. WO 2013/036979 A1).