[DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE

Frank Wiesbrock (Erfinder), Franz Stelzer (Erfinder), Verena Schenk (Erfinder), Lisa Ellmaier (Erfinder)

Publikation: SchutzrechtPatent

Originalspracheenglisch
VeröffentlichungsnummerWO 2013/036979 A1
PublikationsstatusVeröffentlicht - 21 Mär 2013

Fields of Expertise

  • Advanced Materials Science

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