[DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE

Frank Wiesbrock (Erfinder), Franz Stelzer (Erfinder), Verena Schenk (Erfinder), Lisa Ellmaier (Erfinder)

Publikation: SchutzrechtPatentForschung

Originalspracheenglisch
VeröffentlichungsnummerWO 2013/036979 A1
PublikationsstatusVeröffentlicht - 21 Mär 2013

Fields of Expertise

  • Advanced Materials Science

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Wiesbrock, F., Stelzer, F., Schenk, V., & Ellmaier, L. (2013). [DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE. (Patent Nr. WO 2013/036979 A1).

[DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE. / Wiesbrock, Frank (Erfinder); Stelzer, Franz (Erfinder); Schenk, Verena (Erfinder); Ellmaier, Lisa (Erfinder).

Patent Nr.: WO 2013/036979 A1.

Publikation: SchutzrechtPatentForschung

Wiesbrock, F, Stelzer, F, Schenk, V & Ellmaier, L 2013, [DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE, Patent Nr. WO 2013/036979 A1.
Wiesbrock F, Stelzer F, Schenk V, Ellmaier L, Erfinder/-innen. [DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE. WO 2013/036979 A1. 2013 Mär 21.
Wiesbrock, Frank (Erfinder) ; Stelzer, Franz (Erfinder) ; Schenk, Verena (Erfinder) ; Ellmaier, Lisa (Erfinder). / [DE] FOTOLACK; [EN] PHOTORESIST; [FR] LAQUE PHOTOSENSIBLE. Patent Nr.: WO 2013/036979 A1.
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M3 - Patent

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