Copoly(2-​oxazoline)​-​based photoresists from renewable resources

Copoly(2-oxazoline)-based photoresists from renewable resources

Klaus Peter Luef, Charlotte Petit, Bruno Grassl, Stéphanie Reynaud, Frank Wiesbrock

Publikation: Beitrag in einer Fachzeitschrift › Artikel

Originalsprache	englisch
Aufsatznummer	POLY-590
Seitenumfang	1
Fachzeitschrift	American Chemical Society Abstracts of Papers
Jahrgang	251st ACS National Meeting & Exposition, San Diego, CA
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 2016

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TY - JOUR

T1 - Copoly(2-oxazoline)-based photoresists from renewable resources

AU - Luef, Klaus Peter

AU - Petit, Charlotte

AU - Grassl, Bruno

AU - Reynaud, Stéphanie

AU - Wiesbrock, Frank

PY - 2016

Y1 - 2016

M3 - Article

VL - 251st ACS National Meeting & Exposition, San Diego, CA

JO - American Chemical Society Abstracts of Papers

JF - American Chemical Society Abstracts of Papers

M1 - POLY-590

ER -