Atmospheric Pressure Ion Deposition, a new technique for processing of functional materials to ultrathin structured films

Thomas E. Hamedinger, Thomas Steindl, Robert Saf

Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/KonferenzbandBeitrag in einem Konferenzband

Originalspracheenglisch
Titel7th International Conference on Nanostructured Materials - LMC
ErscheinungsortFrankfurt am Main/Germany
Herausgeber (Verlag)Druckhaus K. Schmitt Wwe.
Seiten35-35
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2004

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Hamedinger, T. E., Steindl, T., & Saf, R. (2004). Atmospheric Pressure Ion Deposition, a new technique for processing of functional materials to ultrathin structured films. in 7th International Conference on Nanostructured Materials - LMC (S. 35-35). Frankfurt am Main/Germany: Druckhaus K. Schmitt Wwe..