Projektdetails
Beschreibung
Entwicklung und Anwendung physikalischer und chemischer Präparationsverfahren für elektronenmikroskopische Untersuchungen; Aufdampf-und Zerstäubungsverfahren, Gasentladungsverfahren, Beschichtung temperaturempfindlicher Proben, Tieftemperaturpräparation, Dünnen von Materialien, Gefügeentwicklung für metallographische Untersuchungen, Herstellung dünner Schichten; Zielpräparation mittels Focused Ion Beam Anlage
Status | Abschlussdatum |
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Tatsächlicher Beginn/ -es Ende | 1/01/95 → 31/01/03 |