Advanced Process Control (APC) for Semiconductor Processing Equipment (II)

Hofbaur, Michael (Teilnehmer (Co-Investigator))
Staudegger, Felix (Teilnehmer (Co-Investigator))
Dourdoumas, Nicolaos (Projektleiter (Principal Investigator))

Institut für Regelungs- und Automatisierungstechnik (4430)

Projekt: Forschungsprojekt

1 Artikel

1 Ergebnisse

2009

Analyses and Modeling of a Wet-Chemical-Etch Process on Rotating Silicon Wafers with an Impinging Etchant Jet
Staudegger, F., Hofbaur, M. & Kruwinus, H-J., 2009, in: Journal of the Electrochemical Society. 156, 5, S. H340-H345
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